Още през май ASML, лидерът в сегмента на литографските скенери обяви перспективата за системи със свръхвисока числова апертура от 0,75 (Hyper-NA EUV) до началото на следващото десетилетие. Представители на Imec твърдят, че литографията няма да се отдалечи от използването на лазери и силиций и през следващото десетилетие. Съответните прозрения бяха споделени от директора на програмите […]
прочети още
Източник:
kaldata.com
назад към списъка с новини